本文標(biāo)題:晶圓襯底表面沉積生成單晶層的工藝
信息分類:行業(yè)動態(tài) 新聞來源：未知 發(fā)布時間：2017-10-31 22:12:17
晶圓襯底表面沉積生成單晶層的工藝
外延沉積
外延沉積是一種可以在晶圓襯底表面沉積生成單晶薄層的工藝
。晶圓襯底起著籽晶層的作用，通常籽晶層和外延層的晶體結(jié)構(gòu)是
一樣的。現(xiàn)在，外延生長工藝已廣泛用于分立器件和集成電路的生
產(chǎn)。在微電子學(xué)領(lǐng)域，最常見的是用它制備相對襯底的隔離面型結(jié)
，換種說法，它是結(jié)隔離技術(shù)，并可形成掩埋層的工藝。技術(shù)制造
的電路具有較高的性能，如較低的寄生容抗、較高的開關(guān)速度等。
外延沉積中使用最普遍的技術(shù)是氣相外延(VPE)和分子束外延(MBE)
。
外延反應(yīng)爐的設(shè)計有多種不同的方案，其中三種常用的類型：
臥式、立式和桶式外延反應(yīng)爐，無論哪種類型，它們都有一個反應(yīng)
室，在室內(nèi)通過相應(yīng)的化學(xué)反應(yīng)形成外延生長層。為使反應(yīng)正常持
續(xù)地進行，還需要配備加熱器(如RF加熱線圈)，以及供活性氣體和
排除廢氣的系統(tǒng)。
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本文出自上海永亨光學(xué)儀器有限公司，本文地址：http://www.000322.cn/xwjdt/2515.html
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